丹普受邀參加霍廷格舉辦的等離子工程電子電力應用會議
發布時間：2023-02-14
等離子工程電子電力應用會議（Power Electronics For Plasma Engineering，簡稱PE2），于2017年5月16-18日在位于波蘭杰隆卡的霍廷格公司（TRUMPF Huettinger）舉行。會議由霍廷格公司專家主持，會議每年召開一次，本次會議邀請了國際上電子電力及表面領域的知名專家、學者以及企業界代表，北京丹普表面技術有限公司也應邀派專家參會，共同對表面處理及離子工程技術發展現狀、發展趨勢、如何進一步推進行業發展等話題進行了熱烈討論。本次會議參會人數達到100余人，參會代表覆蓋多個國家和地區，在國內外電子電力及表面處理工程領域具有較高的學術水平和廣泛的影響力。
在16日的會議中，霍廷格公司Dr.R.Bugyi先生致歡迎辭，Schaeffler集團公司的Dr.Y.Musayev對汽車和工業廠家如何通過表面技術實現增值做簡短的介紹；Hauzer公司的D.Doerwald和R.Tietema對PVD技術的發展做了介紹；First Solar公司的B.Clark-Phelps和M.Latusek做了ARC管理對材料濺射的重要性的演講；霍廷格公司P.Lesiuk做了在光學和功能性涂料的反應沉積由反向電壓和脈沖參數設置的修改過程和薄膜性質的報告；以及眾多專家在電氣、光學、表面及材料處理方面做了精彩的演講。
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