一種新的離子鍍“黑”膜量產解決方案
發布時間：2012-08-08
一、市場現狀
“黑”色PVD裝飾膜近年來發展迅猛，在某些裝飾鍍膜領域甚至超過了傳統的金色和銀色，成為離子鍍裝飾膜市場的主流。黑色系大致分為深黑色和槍黑色兩種，主要應用的產品包括：數碼產品外殼（主要是手機殼）及配件、表殼表帶、眼鏡架、高爾夫球具、小飾品等。
由于近年來PVD鍍“黑”膜技術的日臻成熟和普及，越來越多的鍍膜廠家已經掌握了這項技術，可以鍍制出很好的黑色膜層。而此時，市場對“黑”膜的要求也越來越高，特別是在高端產品領域，不僅來對膜層色澤有更高的要求，而且對膜層的厚度、顏色均勻性、顏色重復性、耐磨性能以及附著力等各個方面都提出了更高的標準。
，表面光亮度高，很容易獲得0.8微米以上的“黑”膜，并且保持極好的膜層表面光亮度，做出來的“黑”膜顏色也更黑。特別是由中頻電源驅動的非平衡磁控濺射對（孿生）靶技術被廣泛應用在“黑”膜裝飾鍍生產上，大大改善了磁控濺射金屬離化率低，靶材容易“中毒”的缺點，而且圓柱形磁控濺射靶的應用又很好的改善了矩形磁控濺射靶靶材利用率低的缺點。但是，磁控濺射由于鍍膜可控窗口窄，不易控制，所以對鍍膜工藝師的要求也相對更高。
二、一種新的離子鍍“黑”膜解決方案
丹普公司利用最新開發的4G電弧技術，成功的開發出能滿足市場要求的“黑”膜，為廣大客戶提供一種新的離子鍍“黑”膜的解決方案。
4G電弧技術簡介：
4G電弧技術屬于陰極電弧技術的范疇，只是在傳統電弧的基礎上，增加了一套驅動組件，以改善電弧技術的一些技術缺陷，以滿足市場對膜層質量的更高要求。
陰極電弧技術有很多的優點是磁控濺射技術所不能比擬的，例如：金屬離化率高、沉積速率快、膜基結合力好、操作簡單、穩定性強、鍍膜室空間利用率大、生產效率高等。但是，用傳統電弧技術鍍制“黑”膜卻受到了極大的限制，傳統的陰極電弧由于很難在小弧流下穩定工作，而弧電流大蒸發的金屬組分（Ti或Cr）多，相對應，要生成高富C的TiC或CrC受到限制，很難獲得很深黑色的膜，而且由于電弧的最大的缺陷—“微液滴”的存在，傳統電弧不能鍍制厚度超過0.5微米的膜層，否則膜層粗糙不光亮，俗稱“發朦”，而且由于“微液滴”的存在，膜層存在針孔，還降低了抗摩擦和耐腐蝕性能。在目前市場鍍“黑”膜的應用上，電弧和磁控濺射共同使用，但是大多只用作轟擊清洗、打底使用，有些高檔產品甚至已經完全摒棄了電弧，只是用磁控濺射來鍍“黑”。
我公司最新開發的4G電弧技術通過配置特殊的驅動裝置，在繼承了傳統電弧的所有技術優點的同時，又在很大的程度上改善了傳統電弧的缺陷—“微液滴”。通過大量的實驗，不斷的改進工藝參數，成功的開發出質量非常好的“黑”膜的工藝，完全出乎我們的預料，我們利用4G電弧技術開發的“黑”膜質量完全滿足市場的要求，已經給多家客戶提供樣品，并通過一系列測試，獲得客戶的好評，并引起市場的極大關注。
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